IT之家 12 月 22 日消息，ASML 公司近日通過官方 X（推特）賬號(hào)發(fā)布推文，宣布已經(jīng)向英特爾交付首臺(tái)高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備。

　　IT之家此前報(bào)道，ASML 研制的高數(shù)值孔徑光刻設(shè)備主要用于生產(chǎn) 2nm 工藝半導(dǎo)體芯片，數(shù)值孔徑（NA）光學(xué)性能從 0.33 提高到 0.55。

　　ASML 明年規(guī)劃產(chǎn)能僅有 10 臺(tái)，而英特爾已經(jīng)預(yù)訂了其中 6 臺(tái)，不過 ASML 計(jì)劃在未來幾年內(nèi)將此設(shè)備產(chǎn)能提高到每年 20 臺(tái)。

　　ASML 新的高數(shù)值孔徑 EUV 系統(tǒng)涉及一種全新的工具，具有 0.55 數(shù)值孔徑的鏡頭，分辨率為 8 納米。

　　ASML 官方并未說明向英特爾交付了哪款型號(hào)的光刻設(shè)備，非官方消息來源稱本次交付的是 Twinscan EXE：5000 原型，交付給英特爾位于俄勒岡州的研究中心。

　　報(bào)道稱本次交付采用了 250 個(gè)大箱包裝，共計(jì)占用了 13 個(gè)集裝箱，考慮到交貨時(shí)間和后續(xù)安裝，真正投入使用還需要數(shù)月時(shí)間。

　　此外報(bào)道稱，英特爾在量產(chǎn)過程中，會(huì)使用 ASML 更先進(jìn)的 Twinscan EXE：5200 光刻設(shè)備，預(yù)估一臺(tái)成本為 2.5 億歐元。