日本先進邏輯半導體制造商 Rapidus 宣布，其購入的首臺 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻機已于當地時間昨日在其北海道千歲市 IIM-1 晶圓廠完成交付并啟動安裝。這也是日本境內首次引入量產用 EUV 光刻設備。

　　Rapidus 首席執行官、日本政府代表、北海道及千歲市地方政府代表、ASML 高管、荷蘭駐日本大使等相關人士出席了在北海道新千歲機場舉行的紀念儀式。

　　NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 (Low) NA EUV 光刻機的最新型號，能滿足 Rapidus 首代量產工藝 2nm 的制造需求。該光刻機與 0.55 (High) NA EXE 平臺共享部分組件，晶圓吞吐量較前款 NXE:3600D 提升 37.5%。

　　除核心的 EUV 光刻機外，Rapidus 還將在 IIM-1 晶圓廠安裝一系列配套先進半導體制造設備以及全自動材料處理系統，以實現 2nmz 制程 GAA（IT之家備注：全環繞柵極）結構半導體的生產。

　　Rapidus 再次確認 IIM-1 晶圓廠將于 2025 年 4 月啟動試產，且該晶圓廠所有半導體制造設備均將采用單晶圓工藝，Rapidus 將在該模式下構建名為 RUMS（快速和統一制造服務）的新型半導體代工模式。