ASML近日宣布，已開始向英特爾公司交付業界首款具有0.55數值孔徑(High-NA) 的極紫外線(EUV)光刻工具。最初的High-NA機器將用于了解其在英特爾18A(18埃，1.8納米級)制造工藝上的工作原理，這有望使這家CPU巨頭領先于其競爭對手臺積電和三星。
ASML的一位發言人表示:“我們正在發貨第一套高NA系統，并于今天在社交媒體上宣布了這一消息。”“它將按照計劃和早些時候宣布的那樣交給英特爾。”
正如9月份宣布的那樣，ASML本周開始向英特爾Intel交付High-NA極紫外光刻工具。該裝置將從荷蘭的費爾德霍芬運到俄勒岡州希爾斯伯勒附近的英特爾基地，并將在未來幾個月內在那里安裝。這臺機器非常大，需要13個巨大的集裝箱和250個板條箱來運輸。據信，每個高High-NA EUV掃描儀的成本約為3億至4億美元。
據估計，該光刻機將從2026年或2027年起用于商業芯片制造。
